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年度
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交付機関名
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研究費の名称
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研究題目
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補助金額(千円）
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| 2024 |
文部科学省 |
基盤研究(C) |
金属触媒を利用した半導体結晶薄膜の低温形成 |
1,300 |
| 2023 |
文部科学省 |
基盤研究(C) |
金属触媒を利用した半導体結晶薄膜の低温形成 |
1,300 |
| 2022 |
文部科学省 |
基盤研究(C) |
金属触媒を利用した半導体結晶薄膜の低温形成 |
1,690 |
| 2020 |
関東経済産業局（サポイン） |
平成30年度中小企業経営支援等対策費補助金（戦略的基盤技術高度化支援事業） |
SAWフィルタ生産性向上に資するSiO2成膜用スパッタ装置開発 |
1,060 |
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